Fernando Alonso también habla sobre la pista

Tema en 'Foro BMW F1/Racing/Competición' iniciado por Danny, 15 Jun 2007.

  1. Danny

    Danny The Preacher Server Admin Administrador Dynasty Warrior Founder

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    Tras una semana cargada de declaraciones, de comentarios y de tensión, por fin los coches han comenzado a rodar en Indianápolis y Fernando Alonso parece tener las pilas cargadas a tope. Después de cuatro días en los que se le ha cuestionado desde muchos sectores de la prensa, el español comienza a responder en la pista.
    Aunque sólo se trate de la primera sesión libre del GP de Estados Unidos, el piloto español de McLaren Mercedes ha sido el más rápido aventajando en cuatro décimas de segundo al BMW Sauber de Nick Heidfeld y en siete décimas a su compañero Lewis Hamilton. El primer Ferrari ha sido el de Kimi Raikkonen en quinta posición, mientras que Felipe Massa ha concluido séptimo.

    Si bien es cierto que Alonso ha logrado su mejor registro de la sesión (1:11.925) con neumáticos blandos, también lo es que Hamilton también ha utilizado un juego del compuesto de neumáticos más blando y aún así se ha quedado muy lejos del Campeón del Mundo. No olvidemos tampoco que el británico se estrena este fin de semana en el óvalo de Indy, donde por cierto Hamilton ha rodado muy, pero que muy cerca del muro en varias ocasiones.
    Los Ferrari se han quedado a más de un segundo de Alonso, aunque eso sí, Raikkonen y Massa sólo han utilizado los neumáticos duros en esta primera sesión en Indy. De todas formas, se estima que la diferencia entre ambos compuestos podría estar en un medio segundo por vuelta, así que todo hace indicar que los McLaren podrían estar de nuevo por delante este fin de semana. Veremos si es así.
    Por último, destacar la actuación de Sebastien Vettel, sustituto este fin de semana Robert Kubica, y que ha comenzado su Gran Premio de debut marcando el cuarto mejor registro de esta mañana al volante de su BMW Sauber.
    Vía | Autosport
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